一(yī)、技術(shù)參(cān)數

       典型應用(yòng)行業：光學(xué)行業(yè)、微電子行業、精密鑄(zhù)造行(háng)業。

       用(yòng)于矽單(dān)晶片、砷(shēn)化镓片(piàn)、碳(tàn)化矽(xī)、藍寶石(shí)晶片、半(bàn)導體化合物晶(jīng)片、硬盤盤片、芯(xīn)片、寶石(shí)、石(shí)英、硬(yìng)質玻(bō)璃(lí)、光(guāng)學鏡(jìng)片等領域(yù)的研磨抛(pāo)光。

（一(yī)）使用方法：

①工(gōng)藝(yì)條件和物(wù)理指标：

       密(mì)度（g∕cm3）：1.38±0.02，ph=7.3±0.02，粘(zhān)度（mpa.s）：＜10。

②操(cāo)作流程：

       待(dài)洗研磨(mó)抛(pāo)光工件→研磨機研磨(mó)抛光→清洗(xǐ)→進入下道(dào)工序。

③可原液使(shǐ)用(yòng)，或用純(chún)水稀釋(shì)2-3倍後使(shǐ)用。

（二(èr)）注意(yì)事項：

       ①在使(shǐ)用本品時(shí)，不可混入(rù)其它藥液(yè)和酸性、堿(jiǎn)性物質；

       ②若(ruò)不慎濺入眼中(zhōng)，立即(jí)用清水沖(chòng)幹淨即可；

       ③使用本品(pǐn)的槽(cáo)、箱在(zài)加入本品前必(bì)須清(qīng)洗幹淨（把(bǎ)玻璃(lí)粉(fěn)等(děng)物質清除(chú)幹淨），如果槽、箱(xiāng)中有其它殘液(yè),會影響本(běn)品性(xìng)能；

       ④如(rú)果設備原來用的工作(zuò)液已(yǐ)産生細菌(jun1)、發臭，建(jiàn)議添(tiān)加殺菌劑(jì)在研磨機内循(xún)環(huán)，以(yǐ)便管道系(xì)統内、磨盤(pán)等地(dì)方的細菌(jun1)清洗(xǐ)幹淨；

（三）效(xiào)果圖對比：

（四）溶液維護：

       經驗補(bǔ)加法：應定期補加(jiā)或更(gèng)換新液(yè)（建議每(měi)3-5天(tiān)更(gèng)換(huàn)新液(yè)一次，具體(tǐ)視實際(jì)情況而(ér)定）。

（五(wǔ)）故障(zhàng)排除：

二、産(chǎn)品特點(diǎn)

       1、本品是由高分子(zǐ)潤滑劑、極壓抗磨劑、防鏽(xiù)劑、抗氧劑、螯合(hé)劑、消泡劑、殺菌(jun1)防腐(fǔ)劑合成的研磨(mó)抛(pāo)光液。适(shì)用于(yú)藍寶石襯(chèn)底與其他硬質(zhì)材料的粗抛與精抛的平(píng)整化(huà)加工，加工速率(lǜ)高，表面平整度(dù)、粗(cū)糙(cāo)度達到國(guó)際先(xiān)進(jìn)水平(píng)，具(jù)有加(jiā)工效率高(gāo)、使用壽(shòu)命長的(de)特點(diǎn)，且光潔度高，懸浮(fú)性(xìng)強，易(yì)清洗(xǐ)，完全可(kě)以(yǐ)替代同類進口産品(pǐn)。通常隻需(xū)配合研磨(mó)抛光設備使用(yòng)，本品(pǐn)不含苯酚、氯化(huà)石蠟、亞硝(xiāo)酸鹽(yán)、磷和重(zhòng)金屬等(děng)受控物質。

       2、型(xíng)号：2002藍寶(bǎo)石研磨液

       3、保存(cún)與運(yùn)輸：25㎏∕桶塑料桶包(bāo)裝。儲(chǔ)存于(yú)陰涼(liáng)幹燥處(chù)。按(àn)非危(wēi)險品儲運。保質(zhì)期壹年。

       4、本品特點：

• 去(qù)除速率高，抛光效果(guǒ)好，抛光表面(miàn)粗(cū)糙度好(hǎo)，光(guāng)潔度佳無(wú)劃傷；

• 本品(pǐn)有良好的(de)冷卻性與(yǔ)防鏽(xiù)性、潤滑性(xìng)、耐高溫（高達1600-1800度(dù)）；

• 具有(yǒu)良好的防(fáng)腐性(xìng)與防鏽性(xìng)，對提高工件表(biǎo)面光潔度和延長研磨設備的(de)使用(yòng)壽命具有(yǒu)顯著效果，本(běn)品(pǐn)配有螯合(hé)劑，故(gù)在研磨抛光過程中(zhōng)能有(yǒu)效加(jiā)速循環液中碎(suì)屑等雜(zá)質(zhì)快速(sù)沉澱，從而(ér)提高本品的耐(nài)用性(xìng)；

• 本品(pǐn)無刺(cì)激性(xìng)氣味(wèi)、無毒，對環境無污染(rǎn)；

• 分散(sàn)性、滲透性能極好，耐(nài)磨性(xìng)好，與(yǔ)傳統抛光(guāng)粉相(xiàng)比，本品(pǐn)操作簡便、抛(pāo)光(guāng)表(biǎo)面易(yì)清洗、在抛(pāo)光設(shè)備以(yǐ)及抛光墊上無沉積。

• 貯存時應(yīng)避免(miǎn)曝曬，貯存溫(wēn)度爲(wèi)0-40℃，避免敞口長期與空氣(qì)接(jiē)觸。